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纳米级研磨分散机 纳米材料研磨分散设备
¥120000价格 CMSD2000型号 IKN品牌 单位
 
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纳米级研磨分散机 纳米材料研磨分散设备 ,纳米研磨机 是干磨的一种安全而高效的替代方案。



粉碎研磨分散的本质是通过能量的输入使不相溶的两相或多相达到互相包裹,近似稳定均一状态的做功过程。即形成乳液或悬浮液的条件是,在某一能量水平上, 各种微滴颗粒集聚的速度与分散的速度达到动态的平衡。

目前XX市场上大多数的湿法粉碎机厂家生产出来的湿法粉碎机转速只能达到3000rpm左右,的  当然我所说的XX湿法粉碎机机的结构大都都是直连电机或者分体式 ,粉碎机的主轴和电机直连,电机就决定了主轴的转速。

IKN分体式湿法粉碎机机通过皮带传送,可实现23倍的加速,同时立式直立的转轴,运转稳定性大大提高,同时转子动平衡性得到提高,间隙也允许缩小而不产生摩擦。因此立式湿法粉碎机机有XX的乳化分散粉碎效果。根据其定转子剪切的原理,还可以实现固体物料在液体介质中的粉碎,超细物料的均匀分散,以及加速大分子物质的溶解。经过特别设计的高剪切胶体磨 也可以成为反应发生的场所,比如两种液体物料反应生成固体颗粒,通过分别通入腔体,两种物料接触时被剪切成微滴,均匀混合后反应生成的粒子大小均匀,并且粒径很小。


化工研磨分散设备有好有坏,那么如何去判定一台研磨分散设备呢?

一、研磨分散机的转速,机械设备能力的体现很大一部分取决于设备的转速,也就是通常所说的剪切力。目前国内大多数胶体磨的转速都为3000rpm(如廊坊、温州、南通等),而上海依肯的高剪切胶体磨转速可达14000rpm。

二、磨头结构,相同的转速下如何去比较胶体磨的处理效果,我们可以去判定胶体磨的磨头结构,磨头的精密度越高对于物料的研磨能力就会越强。

三、机械密封,机械密封的选择决定的设备的稳定性和使用寿命,好的机械密封可确保设备24小时连续运行,而差的可能只能运行30min就需要停机。

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当然影响胶体磨设备效果的因素还有很多,但主要的核心就是以上的三点。

研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


CMSD 2000/4

300

14,000

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10,500

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7,200

41

30

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4,900

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2,850

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到#大允许量的10%。


上海依肯高剪切研磨分散机采用德国博格曼双端面机械密封,转速高达14000rpm,配合高精密的磨头,在保证冷却水的情况可24小时连续生产,研磨效果好,效率更高。是化工行业尤其是精细化工领域zui佳的选择。

    

纳米级研磨分散机 纳米材料研磨分散设备 ,纳米研磨机 是干磨的一种安全而高效的替代方案。

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